Teknolojinin boyutunun her geçen gün küçüldüğü çağımızda, nano üretimin de giderek önem kazanması kaçınılmaz bir sonuçtur. Lakin günümüz araştırmalarında yaygın olarak kullanılan nano üretim teknikleri giderek sınırlarına ulaşmaya başlamıştır. Önemli uygulamalarıyla her geçen gün biraz daha hayatımıza giren plazmonik araştırmaları bu sınırı zorlayan araştırmaların başını çekmektedir. Bu tür metal nanoyapıların yüksek çözünürluklerle geniş alanlara uygulanmasını sağlayan yöntemler ne yazık ki çok sınırlıdır. Bu yöntemler ya yüksek maliyetleri ya da fazla yapı geometrisi üretimine izin vermemeleri gibi olumsuzlukları da beraberinde getirmektedirler. Deşik maske litografisi (DML) tam da bu konularda nano üretime yeni bir soluk getirebilecek özelliklere sahip gelişmiş bir nano üretim yöntemidir. Bu yöntem ile geniş alanlara, yüksek çözünürlükte ve karmaşık veya basit geometrilerde nanoyapıların düşük maliyetle üretebilmesine olanak tanır. Yüksek uygulanabilirliğe sahip bir temel araştırma projesi olarak nitelendirebileceğimiz bu projede amacımız nano üretim konusunda çok büyük potensiyele sahip bir yöntem olan deşik maske litografisini geliştirerek gerçek potansiyeline yaklaştırmaktır. Bu yöntemin laboratuvarımızda uygulanması ile plazmonik alınındaki teorik ve deneysel çalışmalarımızı ivmelendirmesi, geniş alan üretim desteği sayesinde incelenen yapıların olumlu analiz sonuçları vermesi halinde hemen nihai uygulama alanlarında kullanılması beklenmektedir. DML kaplanacak yüzeyden belli bir uzaklığa yerleştirilen altı oyuk deşikten örneğe açılı bir şekilde metal buharlaştırılması sonucunda metalin deşik altında tam olarak nereye kaplanabileceğinin bilinebileceği, örneğin açısının kaplama sırasında değiştirilmesiyle de çeşitli geometrilerin üretilebileceği fikrine dayanır. Kaplanacak yüzey üzerindeki deşikler yüzeye ne şekilde yerleştirildiyse deşiklerin altlarında kalan örnek yüzeyinde üretilen nihayi nano yapılar da aynı sekilde yerleşecektir. DML geliştirme önerimiz deşiklerin yerleşiminin ve çaplarını kontrol edilerek farklı periyotlarda, ayarlanabilir yüzey kapsamaları ve özellik boyutları ile üretilmesini sağlamaktır. Çalışmalarımız sonucunda yapıların yüzeye rastgele ve 3 farklı periyodik örgüde yerleşimi sağlanacaktır. Bunun yapılabilmesi için kolloidal nanoküre kaplama ve holografik litografi teknikleri kullanılacaktır. Yapacağımız çalışmaların çıktıları DML ile üretilebilecek yapı spektrumunu genişleticektir. DML?nin öneminin önümüzdeki dönemde daha çok araştırmacı tarafından farkedilmesiyle özellikle plazmonik araştırmalarında ve uygulamalarında yaygın kullanılan bir nano üretim yöntemi olacağını öngörüyoruz. Bu yüzden DML?yi şimdiden etkin bir biçimde geliştirip kullanarak hem plazmonik yapıların özelliklerini daha iyi anlamayı, hem de bu yöntemi plazmonik cihazlarda uygulayarak, geleceğin teknolojilerini geliştirmeye bir adım önde başlamayı hedefliyoruz.