0 0

Proje Grubu: TBAG Sayfa Sayısı: 52 Proje No: TBAG-1538 Proje Bitiş Tarihi: 30.09.1997 Metin Dili: Türkçe İndeks Tarihi: 29-07-2022

Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması

Öz:
Plazma destekli kimyasal buhar biriktirme düzeneğinde(PECVD) çeşitli taban üzerine, herbiri hidroj enlenmiş amorf silisyum(a-Si:H) ve amorf silisyum nitrür(a-SiNx:H) ince filmler biriktirilmiştir.ODTÜ Fizik Bölümü Katıhal Elektronik Laboratuvannda daha önce gerçekleştirilen çeşitli proje ve tez kapsamında a-Si:H filmlerin en uygun biriktirme koşullan belirlenmişti.Bu çalışmada ise özellikle a-SiNx:H filmlerinin biriktirme koşullan belirlenmiştir.Bu doğrultuda biryandan morüstü/görünür bölge ve kızılaltı spektroskopi teknikleri kullanılmıştır.,öteyandan da a-SiNx:H filmlerinin diyelektrik tabakasını oluşturduğu MİS yapilar üzerine admittans ölçümleri gerçekleştirilmiştir.Böylece uygun biriktirme koşullan belirlendikten sonra geniş yüzey alanlı amorf silisyum tabanlı resimleme ağının birim gözeneğinin iki temel öğesinden birisi olan amorf silisyum ince film transistörler (a-Si:H TFT) üretilmiş ve elektrik özellikleri belirlenmiştir.
Anahtar Kelime:

Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması

Öz:
Both hydrogenated amorphous silicon(a-Si:H) and silicon nitrite(a-SiNx:H) thin films were grown on various substrates by plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD).The optimal conditions for the growth of a-Si:H films were already determined within the framework of various projects and theses achieved in the Solid State Electronic Laboratory of the phys. Dept. in METU. In this work especially the growth conditions of a-SiNx:H films were studied. In this respect both UV-VIS and FTIR spectroscopies together with ac admittance measurement on the dielectric a-SiNx:H through MIS structure were used.Subsequently, the thin film transistor(a-Si:H TFT),as one of the two main pixel components of the a-Si:H based image sensor array were produced and their electrical behaviors were characterized.
Anahtar Kelime:

Erişim Türü: Erişime Açık
APA KATIRCIOĞLU B, ATILGAN İ, ÖZDER S, Turan R (1997). Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması. , 1 - 52.
Chicago KATIRCIOĞLU Bayram,ATILGAN İsmail,ÖZDER Serhat,Turan Rasit Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması. (1997): 1 - 52.
MLA KATIRCIOĞLU Bayram,ATILGAN İsmail,ÖZDER Serhat,Turan Rasit Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması. , 1997, ss.1 - 52.
AMA KATIRCIOĞLU B,ATILGAN İ,ÖZDER S,Turan R Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması. . 1997; 1 - 52.
Vancouver KATIRCIOĞLU B,ATILGAN İ,ÖZDER S,Turan R Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması. . 1997; 1 - 52.
IEEE KATIRCIOĞLU B,ATILGAN İ,ÖZDER S,Turan R "Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması." , ss.1 - 52, 1997.
ISNAD KATIRCIOĞLU, Bayram vd. "Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması". (1997), 1-52.
APA KATIRCIOĞLU B, ATILGAN İ, ÖZDER S, Turan R (1997). Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması. , 1 - 52.
Chicago KATIRCIOĞLU Bayram,ATILGAN İsmail,ÖZDER Serhat,Turan Rasit Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması. (1997): 1 - 52.
MLA KATIRCIOĞLU Bayram,ATILGAN İsmail,ÖZDER Serhat,Turan Rasit Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması. , 1997, ss.1 - 52.
AMA KATIRCIOĞLU B,ATILGAN İ,ÖZDER S,Turan R Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması. . 1997; 1 - 52.
Vancouver KATIRCIOĞLU B,ATILGAN İ,ÖZDER S,Turan R Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması. . 1997; 1 - 52.
IEEE KATIRCIOĞLU B,ATILGAN İ,ÖZDER S,Turan R "Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması." , ss.1 - 52, 1997.
ISNAD KATIRCIOĞLU, Bayram vd. "Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması". (1997), 1-52.